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半导体设备:打铁还需自身硬,半导体设备国产化砥砺前行

2023-05-25 20:18:54      来源:研报中心


【资料图】

事件点评

2023年5月23日,日本正式出台《外汇及对外贸易法》修正版,对六大类23种尖端半导体制造设备实施出口管制措施。经过两个月公告期后,预计于7月23日正式施行。根据新规,除了向友好国等42个国家和地区出口,相关半导体生产设备出口至“非白名单”国家时,需申请并获得官方发布出口许可。中国、俄罗斯等国家均属于受限制造出口目标地。

日本为向中国出口半导体设备份额最多国家,占比近40%。根据彭博社数据,中国主要从日本、新加坡、美国、荷兰及韩国等国家进口半导体制造设备,其中日本向中国出口半导体制造设备份额占比为39%,是排名第二的新加坡(17%)的2倍以上,美国、荷兰及韩国占比分别为10%、8%及7%。根据国际贸易中心数据,日本半导体设备出口总额为305亿美元,其中对华出口118亿美元,出口额是美国对华设备出口近2倍。

管制设备包括清洁、沉积、光刻和蚀刻等,尼康ArF浸没式光刻机均在限制之中。根据统计,2022年ASML、Cannon、Nikon光刻机销量分别为345、176、38台,ASML光刻机销量远超其余两家之和,为Cannon、Nikon合计销量1.6倍。从提供光刻机类别层面分析,ASML为EUV光刻机唯一供应商,ASML与Nikon能提供ArFi、ArF光刻机。在光刻设备中,用于处理晶圆的步进重复式、步进扫描式光刻机设备(光源波长为193纳米以上、且光源波长乘以0.25再除以数值孔径得到数值为45及以下)受到管制。据此,NikonNSR(Immersion&MP)平台光刻机均包含在内,型号包括NSR-S635E、S631E及S622D,中国已无法从日本进口ArFi光刻机。

中国大陆对日本光刻、刻蚀及热处理设备依赖度较高,各领域进口日本设备占比均超20%。根据中国海关,2022年中国大陆进口步进重复光刻机金额约14.2亿美元,日本占比为28%;CVD/PVD进口金额分别为37.2亿美元和11亿美元,日本占比分别为10.3%和7%;等离子刻蚀设备进口金额37.5亿美元,日本占比31%;热处理进口金额17.4亿美元,日本占比59%;离子注入机进口金额10.6亿美元,日本占比16%。

投资建议:考虑到我国进口日本光刻、刻蚀及热处理等设备占比较高,此次日本对六类设备实施出口管制,将为部分领域带来广阔进口替代空间。建议关注对日本设备依赖程度较高领域中,科研创新能力突出,产品性能出色,供应链管控能力强龙头企业。

风险提示:半导体行业景气度不及预期;国产替代进程放缓;产品研发进度不及预期;宏观经济形势变化风险。

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