【资料图】
光刻胶本质是一种感光材料,也称光致抗蚀剂,主要用于微电子技术中微细图形加工。在紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射下,光刻胶溶解度会发生变化,再经适当溶剂溶去可溶性部分,便可实现图形从掩模版到待加工基片上的转移。进一步,未溶解部分光刻胶作为保护层,在刻蚀步骤中保护其下方材料不被刻蚀,从而完成电路制作。
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